SlurriGardTM-N, DUO and PS Series Filters for Chemical Mechanical Polishing Slurry Filtration

SlurriGardTM篩檢程式是下一代預清潔的 CMP 泥漿過濾器,專為先進的化學機械拋光(CMP) 應用程式。

 

特色

1.專為泥漿應用而設計,SlurriGardTM系列篩檢程式去除顆粒,骨料聚合物和微凝膠,是對 CMP 進程具有破壞性,粒子所需泥漿顆粒的大小分佈,過濾後不會改變。

2.不同泥漿的多媒體格式:

▪N系列>0.5um由5至8層組成微纖維介質,提供優秀的容量和尖銳的過濾切斷曲線,孔徑小於 0.5um奈米纖維介質,可靠和高性能與膠體和二氧化鈰為同一個Slurry家族。

▪二重奏系列使用專利褶皺,深度和包裹下游媒體,為凝膠形成漿料提供優勢。

3.專利* IPWET 技術:

孔徑低於 0.5um, 獲得專利的 IPWET 包裝泥漿篩檢程式提供快速啟動,泥漿節省,和提高過濾性能。

4.分級密度深度MiNanoTM纖維過濾,含有不同種類懸浮的液體、固體,並能夠提供出色的保留聚集,同時允許所需的漿料粒子到達晶圓表面。

5.品質製造,確保過濾到過濾器,批量到批量的性能。

6.所有聚丙烯結構提供與高和低pH的極佳相容性泥漿。

應用

1.泥漿製造過濾。

2.使用點 CMP(化學機械拋光)過濾。

3.泥漿輸送系統和再循環迴圈過濾。

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