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SlurriGardTM-DUO3 DTN Series Filters for Chemical Mechanical Polishing Slurry Filtration
特色
1.專為泥漿應用而設計,SlurriGardTM-DUO3 DTN系列篩檢程式去除顆粒聚合和微凝膠,對 CMP 過程具有破壞性,所需漿料的顆粒大小分佈顆粒在過濾後不會改變。
2.不同泥漿的多媒體格式:
▪二重奏3 DTN系列是專利設計,在外部連續熔化吹介質層和奈米纖維包裹介質在內層提供出色的容量和尖銳的過濾切斷曲線,奈米纖維介質,可靠和高性能與膠體和二氧化鈰為同一個Slurry家族。
▪優化為膠體漿料,低壓力下降工程更好的為優秀保留可變形軟凝膠和膠體顆粒。
3.獲得專利的 IPWETTM 技術:
孔徑低於 0.5um, 獲得專利的 IPWETTM 包裝,SlurriGardTM篩檢程式提供快速啟動,泥漿保存和改進過濾性能。
4.品質製造,確保過濾到過濾器,批量到批量的性能。
5.所有聚丙烯結構提供與高和低pH的極佳相容性泥漿。
應用
1.泥漿製造過濾。
2.使用點 CMP(化學機械拋光)過濾。
3.泥漿輸送系統和再循環迴圈過濾。