GasGardTM-II Micro Series Purge / Gas Filter

GasGardTM-II 微型設計用於 50 SLPM 流量氣體凈化過濾速率半導體超高純度凈化和使用 XCDA、CDA、N2 的氣體過濾應用和/或惰性氣體,高純度性能 PTFE膜製造內 316L 電拋光不鏽鋼外殼將提供 0.003 微米粒子保留性能。

特色

1.GasGardTM-II 利用美國進口的高純度和高性能PTFE膜。

2.0.003 微米過濾驗證為相等或測試時更好地保留顆粒與超高純度的行業基準POU 氣體過濾器額定額定值 > 9999999999%。

3.高純度支援的 PTFE 膜,PFA 結構提供優異的化學品與 XCDA、CDA、N2 和惰性相容氣體,使這些篩檢程式成為使用點的理想之選清除氣體應用,以快速減少顆粒,濕度和VOC在密閉迷你環境。

4.經濟高效的解決方案超清潔篩檢程式設計以 ISO9000 系列認證清潔製造房間設施,過濾器設計、材料選擇和UHP 淨化程序經過優化,可優化為消除揮發和排氣的揮發和排氣確保可靠的下游清潔度,最後用過濾氮氣清除元件,用於初始清潔,揮發性 < 10ppb 水分性能規格。

應用

1.FOUP 的使用點淨化氣體應用,光罩和迷你環境。

2.一般和工藝惰性設施氣體。

3.清潔乾燥空氣 (CDA*), 用於關鍵計量,檢測和光刻應用。

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